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光刻工藝HMDS鍍膜機，MOS器件HMDS鍍膜 機涂布工藝是改善晶圓表面接觸角的關鍵步驟。

抗粘劑蒸鍍機，抗粘層鍍膜機在基片與彈性支撐層之間還形成有抗黏層，抗黏層一般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。

HMDS涂布機，HMDS涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理， HMDS 涂布的原理，較常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻膠的黏附性工藝中，實際上六甲基二硅烷并不是作為粘結劑所產生作用的，而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結構，從而使晶圓的性質由親水性表面轉變為疏水性表面。

HMDS鍍膜機設備。整個系統采用優質醫用級316L不銹鋼材料制作，無發塵材料，適用百級光刻間凈化環境。

HMDS涂膠系統，HMDS涂膠烤箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、液晶面板、顯示器、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料預處理及相關行業。

脫模劑蒸鍍機，脫 模劑鍍膜烤箱應用于半導體，光電、電子行業硅片、砂紙或石英硬模板等材料。

氣相成底膜烤箱，HMDS蒸氣淀積系統用于除去硅片表面的污染物（顆粒、有機物、工藝殘余、可動離子），除去水蒸氣，使基底表面由親水性變為憎水性，增強表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。